DEPOSIÇÃO E CORROSÃO DE FILMES DE DLC POR TÉCNICAS ASSISTIDAS A PLASMA Marco Antônio de Souza 2, *,Marcos Massi 1 , Homero Santiago Maciel 1 , Rodrigo Sávio Pessoa 1 e Jossano Marcuzzo 1 1 Centro Técnico Aeroespacial, Instituto Tecnológico de Aeronáutica, Departamento de Física, Praça Mal. Eduardo Gomes, N 0 50, CEP: 12228-900, São José dos Campos, SP, Brasil. 2 Universidade do Vale do Paraíba, São José dos Campos, SP, Brasil * Bolsista PIBIC do CNPq Resumo Neste trabalho filmes de carbono tipo diamante foram depositados por meio de um sistema do tipo magnetron sputtering. Esses filmes foram caracterizados quanto à suas espessuras e em seguida foram corroídos em um reator a plasma do tipo RIE (reactive íon etching). As corrosões foram feitas com dois gases distintos, o argônio e o oxigênio, mantendo-se constante a pressão (em 50mTorr) e o fluxo dos gases (em 40sccm). Foi realizado um estudo a respeito da influência da potência (50W a 200W) de rádio-frequência sobre a taxa de corrosão dos filmes. Observou-se um aumento na taxa de corrosão com o aumento da potência aplicada à descarga. Foi observado também que o efeito reativo do oxigênio possibilita um aumento de até duas vezes na taxa de corrosão dos filmes, quando comparada com os valores obtidos com argônio puro. Abstract In this work, diamond-like carbon films were deposited by a magnetron cathode system. The thicknesses of these films were measured by a profilometer, and then, they were etched in a reactive ion etching plasma reactor. Two different gases were used to etch the films, argon and oxygen, keeping constant the working pressure (at 50mTorr) and the total flow rate of the gases (at 40 sccm). It was studied the influence of the rf power on the etching rate of the films. The results show that etching rate increases when the rf power was increased. It was also observed that the reactive effect of the oxygen can increase the etching rate by a factor of 2 when compared to the values obtained with pure argon discharge. 1. INTRODUÇÃO Os filmes de carbono tipo diamante (diamond like carbon - DLC) são materiais amorfos metaestáveis, compostos principalmente por átomos de carbono ligados por hibridações sp 2 e sp 3 em uma cadeia desordenada 1 . Estes filmes vêm sendo produzidos por uma grande variedade de métodos, incluindo deposição química a vapor, assistida por plasma DC e RF, sputtering, ou deposição por feixe de íons, a partir de uma variedade de fontes de carbono, seja como substrato, sólido ou fonte gasosa do material 2 . Estes filmes são caracterizados por extrema dureza (entre 1800 - 8000 kg/mm 2 ), geralmente por um baixo coeficiente de atrito (entre 0,012 e 0,28), assim como por baixo stress interno compressivo (em torno de 1 - 4 GPa). Os filmes possuem uma alta transparência óptica em uma ampla faixa espectral, alta resistividade elétrica e são inertes a bases e ácidos fracos 3 . Todas estas características tornam este tipo de material um candidato ideal para muitas aplicações tecnológicas nas diversas áreas da ciência aeroespacial, biomédica, eletroeletrônica e mecânica 4 . Para que estes filmes sejam utilizados em microeletrônica, por exemplo, é necessário que se conheça também os mecanismos de corrosão por plasmas dos mesmos 5 . Neste trabalho filmes de DLC foram depositados por sputtering e em seguida submetidos à corrosão por plasma de rádio-frequência em um reator do tipo RIE (reactive íon etching). As corrosões foram feitas com dois tipos de gases, o oxigênio e o argônio, em diferentes valores de potência