ک ایران فوتونیفرانس اپتیک و کنکمینست و ی بی فوتونیک و فناوری مهندسیفرانس کن و هفتمین ایران32 تا32 دی ماه۳232 د بهشتی شهینشگاه ، دا۳702 ست که در سایتر اعتبا دارای ان مقاله در صورتی ای.opsi.ir www سترسی باشد. قابل د اندازهه از تداخلستفاد ایه نازک بایه اری نما گی سنجی مهدی اشرفی، خسرو حسنی گنجوی اپتیک پژوهشی آزمایشگاه2 تهراننشگاهزیک، داانشکده فی ، د چکیده– کی از روش یی متداول برای اندازه هاری گیمت ایه ضخاه از تداخلستفادزک ا های نایل غیر مخرب نوری است که به دل سنجیار مورد توجه مییون بسیلیبراس و عدم نیاز به کا بودنقت اندازه. د باشد این روشیه بامت اری ضخا گیرین حالت در بهتودر حد دnm 03 - 03 ه بدست مین ایها ضخامت میانگیده و تن بوین مقاله ما. در ا آید برازش طرح تداخلیخلی و باسکوپ تدا میکرومک یک با ک از دو طرف پله به یکوانستهظری مناسب ت مدل نقت اندازه ایم دا به کمتر ازی ر گیرnm 03 ضخامتغییرات نمایه تیم و عاوه بر آن برسان ا یهز بدست آوریم. را نی ها کلید واژه– زک، اندازهیه ناخل سنجی، ا تداری ضخامت، گیسکوپ تداخلی میکروThin Film Profile Measurement Using Interferometry Mehdi Ashrafganjoie, Khosrow Hassani Optics Research Lab.2, Department of Physics, University of Tehran Abstract – One of the popular techniques for the measurement of the thickness of thin films is based on light interferometry, which has the advantage of being non-destructive and calibration-free. However, the uncertainty achieved by this method is not usually better than 03-03 nm, and it can only measure the average film thickness. In this work, by using an interference microscope and fitting the interference patterns to an appropriate model, we are able to improve the precision to less than 03- nm, and also provide the film thickness profile. Keywords- Interferometry, Thin Film, Thickness Measurement, Interference Microscope