速 報
第35回真 空 に関 す る連 合 講 演 会 プ ロ シー デ ィ ング ス
集束イオ ンビームを用いた探針加工の研究*
佐 々木 泰**・ 亀 井 孝 明**・吉 本 智 巳**・岩 田 達 夫**
鈴木 和 郎**・ 末 岡 和 久***・武 笠 幸 一***
(受理1994年11月30日, 掲 載 決定1995年1月7日)
Probe Tip Formed by Focused Ion Beams
Yasushi SASAKI**, Takaaki KAMEI**, Tomomi YOSHIMOTO**, Tatsuo IWATA**
Kazuo SUZUKI**, Kazuhisa SUEOKA*** and Koichi MUKASA***
**(Faculty of Engineering
, Hokkaido TOKAI Univ., Sapporo)
***(Faculty of Engineering
, Hokkaido Univ., Sapporo)
(Received November 30, 1994, Accept January 7, 1995)
1. は じ め に
原子レベルからミクロンオーダまでの広い範囲の表面
構造観察装置 と し て,原 子 間 力 顕 微 鏡(Atomic Force
Microscopy:AFM)や 走査型 ト ン ネ ル 顕 微 鏡(Scanning
Tunneling Microscopy:STM)な ど の,い わゆる走査型
プ ロ ー ブ 顕 微 鏡(Scanning ProbeMicroscopy:SPM)が
様々な分野で利用 され るようにな ってきてい る1).
SPMを 用いて表面観察を行 う際,特 に凹凸の大きい試
料 の場 合 には,探 針形状が観察像に与える影響が大きい
た め に,高 い ア スペ ク ト比 を持 ち先 端 半 径 の 小 さい探 針
を必 要 とす る.従 来 よ り,こ の様な探針を作製するに
は,電 解 研 磨 や 機 械 研 磨 を 用 い る 方 法,ま たウィスカー
を用いるなど様々な方法でのアプローチが行われてい
る2,3).
集 束 イ オ ン ビ ー ム(Focused Ion Beam:FIB)を 用いた
加 工 法 は,こ のような探針を作製するための有効な手段
の一つであ り,Russel1はFIBを 用いて探針の加工を行
い,こ の手法か探針の先鋭化において有効な手段である
こ とを 示 して い る4).また,ArやXeイ オンのスパッタ
に よ る探 針 の 加 工 も行 わ れ て い る5,6).本 研 究 で は,従
来の集束イオンビーム装置に電子線描画システムを付加
し,こ の装 置 を 用 い てW探 針の加工 を行 った.こ れに
よ り先端半径 が約10nmでアスペ ク ト比 の高い探針を得
る こ とが で き た.ま た,加 工 した 探針 先 端 の表 面 構 造 を
電 界 イ オ ン顕 微 鏡(Field Ion Microscope:FIM)で 観察
した.
2. 実 験 装 置
イ オ ン源 と して は 液 体Ga金 属 を 用 い た.実 験 に用 い
たFIB装置 は エ リオ ニ クス社 製FIB装置(EIP-3300,
Fig.1)に 電子線 描画 システ ム(同 社 製ECA-5)を付
加 した も の であ る.こ うす る こ とに よ り,イ オ ン ビー ム
の ベ ク トル走 査 が 可 能 とな り,円錐 を は じめ 様 々な形 状
の探 針 の微 細 加 工 が 可 能 とな る.ビ ー ム の最 小移 動 量 は
0.02nmで あ る.イ オ ンビームのスポ ッ ト径 は可動絞 り
に よ り4段 階 に調 整 で き,最 小 ビ ー ム ス ポ ッ ト径 は 約
50nmであ る.ま た,本 装 置 に は 探 針 先端 の セ ンタ リ ン
グを 容 易 にす る た め に,2つ の二 次 電 子 検 出器 に よ る無
影二次電子像観察および凹凸二次電子像観察機能が付い
てい る.
* 平成6年10月28日第35回真 空 に 関 す る連 合 講 演 会 に て 講 演(28Ba-
12)
** 北海 道 東 海 大 学 工 学 部(〒005札 幌 市 南 区 南 の 沢5条1丁 目1-1)
*** 北 海 道 大 学 工 学 部(〒060札 幌 市 北 区 北13条西8丁 目)
第38巻 第3号 (1995)
(285)
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