DACH-Jahrestagung 2019 1 Lizenz: https://creativecommons.org/licenses/by-nd/4.0/deed.de Effektive Bestimmung der Fokusparameter von Mikrofokus-Röntgenquellen Jens ILLEMANN 1 , Dietmar MEINEL 2 , Carsten BELLON 2 1 PTB, Braunschweig 2 BAM, Berlin Kontakt E-Mail: jens.illemann@ptb.de Kurzfassung. Mikrofokus-Röntgenquellen werden in der industriellen CT flexibel verwendet, um mit kleiner Leistung hohe Auflösung zu erzielen oder mit verminderter Auflösung bei höherer Leistung kürzere Messzeiten zu erreichen. Insbesondere Quellen in offener Bauweise benötigen Wartung wie Filamentwechsel und Nachstellen der Fokusparameter. Ziel ist es, einen optimal kleinen Quellfleck bei bekannter Spannung einzustellen und dessen Größe zu bestimmen. Zur Überprüfung der Quellfleckgröße sind bereits Verfahren unter Verwendung lithographisch hergestellter Masken mit Strichmustern oder Siemenssternen aus Mikrometer dünnen Schichten aus stark absorbierendem Material wie z.B. Gold bekannt. Diese erfordern wegen der geringen Absorption eine lange Messzeit und sind nur kostenintensiv herzustellen. Ihre Verwendung zur regelmäßigen Qualitätsüberprüfung von CT-Anlagen ist daher nicht verbreitet. Ziel dieser Arbeit ist es, die richtungsabhängige Quellfleckgröße absolut zu bestimmen, wobei nur einfach zu beschaffende Wolframspitzen verwendet werden. Dazu werden radiographische Bilder in hoher Vergrößerung aufgenommen und die Grauwertverteilung parametrisiert. Unter Verwendung der Kenntnis von Targetmaterial und Spannung wird eine eineindeutige Zuordnung zur Quellfleckgröße vorgenommen. Dieses erfordert eine extensive Simulation für verschiedene Spannungen, Fokusgrößen und andere Einflussgrößen, sowie die experimentelle Verifikation an verschiedenen CT-Anlagen im Vergleich zu einer bekannten Methode. Erste Ergebnisse werden vorgestellt und die praktische Implementierung unter Angabe der Einschränkungen der Verwendbarkeit diskutiert. Die Autoren hoffen, damit einen wesentlichen Beitrag zur Verbesserung der Qualitätssicherung und zur Arbeitseffizienz in der Mikrocomputertomographie leisten zu können. Einführung Mit aufwändigeren lithographischen Mustern kann der Strahlfleck durch Entfaltung berechnet werden [1]. Hier soll es aber um pragmatische Tests gehen. Als solche sind JIMA- Masken [2,3] und Siemenssterne bekannt, die in einem binären Muster bestehen. D.h. eine dünne Schicht stark absorbierenden Metalls konstanter Dicke ist auf einem Träger aufgebracht. Im Folgenden wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem eine konische Spitze aus stark absorbierendem Wolfram zur Bestimmung der Strahlfleckgröße in seinen Hauptachsen benutzt wird. Um experimentell eine Referenz zu haben, wird eine JIMA RT-RC-05 Maske verwendet, die Strichstrukturen von 3 µm bis 50 µm besitzt. Die einfache Methode der More info about this article: http://www.ndt.net/?id=24551